关于拓荆科技几点思考：对比千亿市值中微，公司算不算价值洼地【东吴机械】

关于拓荆科技几点思考：对比千亿市值中微，公司算不算价值洼地【东吴机械】

2023年初至今，半导体设备（长江）板块涨幅35.67%，其中中微公司是此轮行情的标杆，涨幅69.17%。刻蚀和薄膜沉积设备是价值量TOP2的大赛道，拓荆科技一直是我们排序靠前重点推荐的公司，一直和中微作对比，核心团队具备全球一线半导体企业工作经验，中微公司1000亿市值，300+亿的拓荆科技算不算价值洼地。

?1、中微公司成为此轮半导体设备行情标杆原因？我们一直强调今年板块的投资思路与2022年略有差异，面对美日荷兰等外部的不断制裁，突破核心关键设备以及市占率提升在2023年显得得尤为重要，毕竟行业扩产贝塔预期已经下调。高深宽比（进入客户验证）、大马士革刻蚀设备（通过初步验证）点燃市场情绪，以及在国内最先进逻辑器件生产线、在存储研发产线，CCP、ICP设备近期市占率指引目标超预期，对中微股价起到明显提升作用。

?2、横向对比中微，拓荆为什么值500-600亿市值？拓荆科技2022年营业收入17.06亿元（几乎全为薄膜沉积设备贡献），中微公司2022年半导体设备收入31.5亿元，拓荆科技半导体设备收入为中微公司半导体设备收入54%；订单角度，2022年中微新接订单63亿元，拓荆科技暂未未披露，我们预计二者半导体设备订单差距较更小；增速上，2022年拓荆科技半导体设备收入同比增速125%（近似营收增速），显著高于中微半导体设备收入57%的同比增速。以中微公司 1022亿市值对比，以同样的PS估值水平，拓荆科技当前的合理市值500-600亿。

?3、日本加入制裁行列，薄膜沉积环节最受益的是拓荆？3月31日，日本将限制23项半导体设备出口，薄膜沉积设备占据11项。拓荆科技是PECVD、SACVD国内唯一供应商，PECVD公司在逻辑芯片领域已基本实现28nm及以上制程全覆盖，多种14nm及10nm以下制程设备正在积极配合客户进行产业化验证，公司SACVD已经实现12英寸40/28nm和8英寸90nm以上逻辑芯片产业化应用，公司适用于19/17nm DRAM刻蚀调节层的SACVD设备也正在产业化验证中。类似于高深宽比刻蚀设备等，NONO叠层沉积设备作为3D NAND关键底层沉积设备，公司氧化硅/氮化硅（ONON）堆栈薄膜技术达到国际先进水平，外部制裁背景下，关键设备突破，以及在各大晶圆厂市占率有望迎来超预期提升。

?4、远期线性测算，拓荆科技也是千亿市值级别的公司？薄膜和刻蚀设备占前道价值量TOP2的大赛道，薄膜沉积设备占比25%，国内市场规模70亿美元+，从产品覆盖来看，拓荆科技主要产品PECVD、SACVD、ALD占薄膜沉积设备价值量超过50%，也在布局HDPCVD、UV Cure等设备，未来触及的市场规模不断扩张。看远期，以目前布局的产品品类，我们粗略测算中拓荆科技远期可以看到150+亿，25%净利率，回归合理PE估值（20-30倍），拓荆科技未来市值1000亿+（中微公司1500亿+）。

?5、关于市场对于短期解禁担忧？2023年4月20日，公司4111万股份解禁，考虑本次解禁量较大且相关资金浮盈丰厚，成为公司市场短期较为担心的一个风险因素。我们认为解禁会对短期情绪形成一定冲击，但从价值角度考虑，如果真的跌破300亿，可以无脑直接布局。对于偏中长线的领导，错过了前期中微上车机会，建议关注当前位置下的拓荆科技。

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